TweakPC



NVIDIA steigt auf 110 nm um

Mittwoch, 25. Feb. 2004 17:04 - [fs] - Quelle:

Für Anfang 2005 hat NVIDIA die Umstellung des Fertigungs-Prozesses auf 110 nm umgestellt. Bis dahin wird vermutlich auch ATI eine entsprechende Umstellung bekanntgeben, denn nur durch die Verringerung der Strukturbreite kann die Taktfrequenz weiter erhöht werden.

Pressemitteilung NVIDIA steigt um auf TSMCs 0,11-Mikron-Technologie Sub-Mikron-Prozess-Technologie ermöglicht höhere Performance und geringeren Stromverbrauch Santa Clara, CA und Hsin-Chu, Taiwan– 25. Februar 2004 - NVIDIA® (Nasdaq: NVDA), der weltweite Marktführer in Visual Processing Lösungen, bestätigte heute, dass NVIDIA eines der ersten Halbleiter-Unternehmen sein wird, dass ausgewählte zukünftige Graphics Processing Units (GPUs) in der 0,11-Micron-Prozess-Technologie von TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company) (TAIEX: 2330, NYSE: TSMC) fertigen lassen wird. NVIDIA wird TSMCs 0,11-Mikron-Verfahren mit eigenen, innovativen Fertigungs-Designs kombinieren und so Grafik Prozessoren liefern, die hoch performant sind und einen niedrigen Stromverbrauch haben. „Die Entscheidung zu diesem neuen Verfahren zu wechseln unterstreicht die lange und gute Beziehung zwischen TSMC und NVIDIA,“ so Di Ma, Vice President of Operations at NVIDIA. „Dieses neue Verfahren zusammen mit unseren zahlreichen architektonischen Verbesserungen, ermöglicht es uns kontinuierlich Produkte zu bringen, die Anwender in die Lage versetzen, mit einer Vielzahl digitaler Geräte zu interagieren. Wir freuen uns auf die neuen Möglichkeiten, die dieser Fortschritt mit sich bringt.“ „TSMC hat sich zur innovativer Zusammenarbeit mit fortschrittlichen Unternehmen wie NVIDIA verpflichtet,“ sagt Dr. Rick Tsai, Präsident von TSMC. „Diese Beziehungen ermöglichen es uns, Technologie-Plattformen zu liefern, die neue Möglichkeiten für unsere Kunden schaffen.“ Die 0,11-Mikron-Verfahren stellt im Grunde eine foto-lithografische Schrumpfung des insustrieführenden 0,13-Mikron-Prozesses dar. Dieser Prozess wird sowohl im Highend- wie auch im Mittelkasse-Bereich eingesetzt werden wobei FSG (Fluorinated Silicate Glass) zur Isolation der einzelnen Transistoren verwendet wird. Obwohl konkrete Ergebnisse vom jeweiligen Chip-Design abhängen, wird der 0,11-Mikron-Prozess im Vergleich mit der 0,13-Mikron FSG basierten Technologie durch Transistoren-Verbesserungen für eine höhere Geschwindigkeit und geringere Stromaufnahme sorgen. TSMC begann mit der Entwicklung der hoch performanten 0,11-Mikron-Technologie im Jahre 2002 und stellte den Prozess Ende 2003 fertig. Konstruktions-Vorschriften sowie –Richtlinien, SPICE sowie SRAM Modelle wurden entwickelt. Die Verfügbarkeit von Compilern von Drittanbietern ist für März geplant. Die Ausbeute ist bereits produktionstauglich und die Low-Voltage-Version steht für die Massenproduktion bereit. Die 0,11-Mikron-Massenproduktion beliebiger Chips ist für das erste Quartal 2005 geplant.
Verwandte Testberichte, News, Kommentare
ueber TweakPC: Impressum, Datenschutz Copyright 1999-2024 TweakPC, Alle Rechte vorbehalten, all rights reserved. Mit * gekennzeichnete Links sind Affiliates.