Intel: Halbes Jahrzehnt weiter als die Konkurrenz?

Mit Einführung der im 22-nm-Verfahren gefertigten Sandy Bridge debütieren auch erstmals Tri-Gate-Transistoren in x86-CPUs. Diese dreidimensionalen Transitoren bieten gegenüber herkömmlichen planaren Transistoren erhebliche Vorteile.

"Unsere Forschung hat ergeben, dass bei Transistor-Kenngrößen unter 30 Nanometer ein traditioneller Transistor mit einer planaren Sperrschicht unseren Anforderungen an Stromverbrauch und Leistungsfähigkeit nicht entspricht," sagte Dr. Gerald Marcyk, Director des Components Research Labs bei Intel. "Das Tri-Gate Transistor Design erlaubt Intel besonders kleine Transistoren zu bauen, die sehr leistungsfähig sind und nur geringe Leckströme aufweisen."

Intel zufolge und im Vergleich zu den bisher bekannten Roadmaps der Konkurrenz, ist das Unternehmen der Konkurrenz dank der Tri-Gate-Transistoren vier Jahre voraus. Auf einer Grafik verdeutlicht Intel den anwachsenden technischen Vorsprung, der 2003 bei der Einführung von Strained Silicon drei Jahre betragen haben soll. 2007, bei der Etablierung der High-k Metal Gates, waren es Intel zufolge bereits dreieinhalb Jahre.